Sources d'ions pour les accélérateurs fort courant

Raphaël Gobin, CEA

e-mail : rjgobin@cea.fr


Résumé :

Dans le cadre de l'étude des accélérateurs fort courant et plus particulièrement du projet IPHI, deux sources d'ions sont actuellement développées au CEA/Saclay: SILHI pour les protons et une source d'ions H -Dans ce type d'accélérateur, les conditions initiales du faisceau sont: fonctionnement pulsé ou continu, forte intensité, faible émittance, très grande fiabilité. La source SILHI [1,2] doit produire un faisceau de protons (100 mA) avec une énergie de 95 keV et une émittance rms normalisée inférieure à 0.2 p mm. mrad. Nous avons choisi une source de type ECR en raison de sa fiabilité (pas de filament ni d'antenne), de sa durée de vie importante et de la faible température des ions et des électrons à l'intérieur du plasma. Quant à la source d'ions négatifs, elle devra produire un faisceau pulsé d'ions H - de plus de 70 mA. Cet article résume les progrès accomplis au cours des deux dernières années avec SILHI (amélioration de l'émittance du faisceau, mesure de la compensation de charge d'espace, tests de fiabilité, mesure de proportion). Il présente également les dessins et programmes de la source "ECRIN" actuellement en construction.


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